“各位下午好，我是方年，初次见面，请多关照。”
“方总好。”
“方总太客气了。”
“……”
简单的寒暄过后，方年直截了当道：“恕我冒昧，为了不耽误大家更多的时间，我就开门见山了。”
“庐州前沿正在建设一条12寸晶圆测试线，为了配合这条测试线，梼杌这边将全面进军euv光刻研究，希望大家能给予必要支持。”
此话一出，众人皆愣。
包括梼杌的王院士。
“euv？”张学君挑了下眉，斟酌着说道，“方总，冒昧问一句，你好像对极紫外情有独钟？”
“理论上只有最尖端光刻需要用到极紫外光刻，duv(深紫外)借住浸入式方案理论上可以做到7nm光刻，似乎没必要全面进军euv？”
“……”
在座众人都是懂行人士，纷纷发表了各自的看法。
比如duv技术积累等等问题。
毕竟梼杌实验室名字里的‘半导体设备’五个字有85%是针对：
集成电路前道制造光刻机。
光刻机其实是个泛称，内里可细分为前道制造、后道封装、应用于tft(薄膜晶体管)的光刻、应用于中小基底先进光刻等的光刻机。
一般大众认知范围内的光刻机是集成电路前道制造光刻机……
听着大家的不同意见，方年微微一笑：“duv不是有各位在努力吗？”
“前沿不能白叫前沿这个名字，而且euv这个领域基本上属于赢家通吃，很符合前沿的目标。”
王院士立马道：“可是asml的euv实验机去年就运到了台积电使用。”
“……”
“这个领域需要很庞大的投入。”
“……”
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