用四年搞出来，已经算不错了。但当时国际上主流的光刻机光源都已经进入了duv深紫外光源领域，制程方面也进入了0.25微米节点，正在攻克基于krf193纳米光源的0.18微米制程节点。
同时西边也成立euv极紫外联盟，远景目标定到了10纳米。
相比之下，国内还在用汞灯g线光源的光刻机，无论是技术还是前景，都已经落后得让人绝望，以至于此后的十五年内，国内都绝口不提光刻机。
可苏远山却是知道，krf193+浸润式，可是能用到2020年！
现在这台已经完成的光刻机是1.5微米节点，相比最先进的落后三到四代。如果继续按照原有的步伐，要追上也得十几年。
所以苏远山决定力劝郑振川，无论如何也要抛弃可见光了。
而且要搞光源，还得拉上成光所它爹，长光所。
（凭记忆写的节点，大概没错……回头再查查，有问题我修正）
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