“没错，我们自研的设备或许是落后的，但是，我们自己能造，就能避免被外国卡脖子。如果我们自己不造，造出来了自己不用，那我们就不会有自己的芯片生产设备，我们就只能看外国人的脸色，如果外国人对我们来个制裁或者封锁，那我们就会原地踏步，芯片领域里的摩尔定律，会让我们迅速落后。”秦锋说道：“目前，我们国内最多引进个3微米的工艺，再看看国外，英特尔的386处理器已经用到了1微米的工艺制程！如果我们只靠引进，永远都只能引进落后世界的工艺！”
“秦总，你说的有道理，但是，我们国内并没有成熟的芯片生产设备……”
“有。”一直没有说话的黄老开口了：“清华大学的徐教授已经开发出来了投影式光刻机，这是第三代光刻机，在80年的时候，就已经能够达到3微米的精度，可惜，国内没有一个企业用。”
说起芯片来，就不得不提到光刻机，毕竟制造芯片的第一步，就是把线路刻到硅片上，这就需要光刻机。
东方在这个方面并不落后，早在1965年，国内就制造出来了65型接触式光刻机，到了1977年，国内的1445所又研发出来了gk-3自动光刻机，但是依旧属于第一代的范畴，而美国人早在五十年代就研制出来了类似的光刻机，所以，一般都认为东方的光刻机和西方有20年的差距。
20年的时间，两个代差，怎么追？
清华大学的徐教授给出了答案：弯道超车！在他的带领下，国内的光刻机发展越过了第二代接近式光刻机，直接就瞄准了当时最先进的第三代投影式光刻机的研发。
只用了三年的时间，到了80年，国内第一台投影式光刻机研发成功！
这个时代，asml还没有任何名声，著名的光学设备厂商珀金埃尔默从1967年就在研发这种技术，到了7
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