第181章 救星来了！（3 / 5）

，最终结果终于出炉了。

他们研发的光刻胶，成功地经受干法刻蚀中高能粒子的洗礼，顺利完成了保护硅片基底的任务，芯片良品率高达98%！

在吴利鸿院士的带领下，苏省大学微电子研究员，终于成功研发出了一款能胜任13.5nm制程的国产顶级euv光刻胶！

而且这个13.5纳米制程，只是目前的初步实验结论。

从他们这次得到的套刻精度来看，这款光刻胶实际上有相当大的可能，可以胜任5纳米制程芯片的制造！

吴利鸿也非常沉得住气，没有选择立即将实验结果上报上去，而是让研究员们按照上次的配方，重新调配了一批光刻胶。

然后重复做了足足十次实验，确认每次的结果误差都在可接受的范围内后，才带着光刻胶和团队的主要技术人员飞往魔都，来到了申城硅产业集团。

此时的申城硅产业的集团总裁陈云明恰好在和华威的余总和何总，讨论华威p6的芯片代工问题。

而双方讨论的要点，就是产量和成本的问题。

华威本着量大从优的道理，想要直接订购两千万枚麒零9000。

但申城硅产业现在，其实也就只有一台秦光一号。

按照秦光一号每小时180片的硅片吞吐量，以及制造出的每片晶圆可以切割出500枚芯片来算，一台光刻机每天的产能应该有216万枚。

但实际上，光刻机的吞吐量不代表晶圆的制造速度，而是要根据不同芯片的设计，进行多次曝光和蚀刻。

以麒零9000为例，它需要经过足足19次光刻-蚀刻循环，才能完成整个晶圆制造环节，

也就是说，每天理论上只能造11万枚。

这还是建立在设备24小时不停机休息和维护，以及100%良率的基础之上。