镜组成的投影系统，将反射掩模上的集成电路的几何图形成像到硅片上的光刻胶中，从而形成集成电路所需要的光刻图形。
原理很简单，但是难度系数很大。
现在就就困在第一步如何制造出适合的靶材料。
也就是小锡球！
只有三千万分之一米大小的小锡球，这种靶材料的制造，本身难度就很高。
尽管陈国华已经在计划书里面说清楚了，如果想要获得极紫外光，确实只能够制造这种小锡球。
奈何章济川等人联合了设备研发实验室的一众研究员，鼓捣了好几个月，依然是没有什么效果。
此前，陈国华就警告过他们，当时他们还以为这个难度再怎么困难，那也只是五年罢了。
现在看来，肯定不止五年啊。
陈国华了解到他们遇到的技术难点之后，当即便跟他们展开来细说如何解决这些问题。
提及如何制造小锡球这一点，就不得不提极紫外技术对光源的要求。
“前面我们已经提到过了，极紫外光源的产生有两种办法，激光等离子体光源和放电等离子体光源”
“整套系统包括激光器、汇聚透镜、负载、光收集器、掩膜、投影光学系统和芯片”
“一般而言，轻的材料比重的材料在极紫外区域的吸收弱，因此你们在实验过程中，可以采用掺锡的泡沫材料来控制极紫外光发射谱.”
章济川他们一群人，全都认真地听着陈国华的讲解。
这些技术，看似很简单，实际上操作起来，能够让人感觉到绝望。
因此陈国华在讲的时候，都会说到极为细致的细节。
即便如此，他们还会问得更详细一些。
一个小时之后，陈国华放下纸和笔，道：
“行了，就这么多了，等你们
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