第457章 盾构机（7 / 12）

暮提出100w作为基础标准的原因。

他想了想，道：

“我的意见是继续在光源、光学系统、掩模技术、光刻胶材料、机械和控制系统上进行创新。”

“就拿光源来说。”

“现在我们的分布式投影光刻机，主要采用还是汞灯光源，主要是g线和i线的紫外光……”

他缓缓地开始讲述。

黄新华和王绶觉两人，也迅速熟练地从口袋中掏出纸笔，开始记录。

一旁的吴有望也没有闲着，不停地为他们泡茶倒茶。

“光源上我们可以向准分子激光光源靠近，如krf248和arf193，甚至采用极紫外光源。”李暮做了个小小的总结。

当然，最后的极紫外光源，就是提出来凑个数，让黄新华等人先有个概念而已。

毕竟在未来，突破极紫外光刻技术，将是夏国势在必行的研究计划。

……

说完了光源。

李暮接着又说起光学系统。

现在他们的光学系统，还属于相对初级阶段。

主要采用的是2:1投影光学系统。

这种技术将掩模上的图案以2:1的比例投影到晶圆上，设计相对简单，分辨率也受到不小的限制。

如果可以提升到4:1，甚至是5：1的话。

解决100w集成度的标准，不会有任何问题。

除此之外，还可以在高数值孔径透镜和浸没式光学系统方面下功夫。

只不过以目前的技术来说，想要同时推进三者的研究，难度实在太大了。

好在也没必要在光学系统上死磕。

掩模技术上可以搞相移掩模、光学邻近矫正和多重图案技术。

光刻胶材料朝着深紫外光刻胶的方向发展。