山团队中一位来自东北某顶级工业院校的教授，也带组研发出了“放电等离子体极紫外光刻光源”，能够输出13.5nm波长euv光，直接填补了国内euv光源空白。
除了光源技术上的全面突破之外。
许青山带着这个超级强大的团队所研发出来的新型光刻技术路线也实现了零美国技术含量的弯道超车。
其中无掩模直写光刻技术，就是最先把14纳米制程实现的技术。
是的，你并没有看错，是最先，因为许青山这个仅有40多人的超级团队，同时同步进行着多项技术的开发，以防止各种技术在未来量产的时候受到外方限制。
除了无掩模直写光刻技术之外，还有基于duv光刻机，通过多次曝光迭加图形，多多重图案化技术，不仅十分适配14纳米工艺还能够达到极高的工件台精度。
除了以上的这些之外，其他的各项突破相较起来反而显得没有那么亮眼。
例如数值孔径的提升，智能控制系统的优化，以及材料方面的突破。
当然，许青山的这个研究基地并不能完全覆盖芯片制造的所有流程。
好在国家也为许青山他们提供了更多全面而强有力的支持。
例如在芯片材料方面，华科院各个物理材料所还有各大高校材料相关方面的国家重点实验室，也都开始领到了各自的课题，集中力量办大事。
这种时候举国体制的优势就被转化的淋漓尽致。
而且地方政府也并没有在这种时候拖后腿。
刘赐归拉来的硅电科技，才刚刚搬来鹭岛没有多久的时间，厂房和技术人员就被许青山征用了。
在简单地了解了许青山他们在做的事情之后，硅电科技没有任何的怨言暂停下了，目前他们的研究进度和生产线开始全力的帮助许青山的研究基地完成光刻机设
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