上65-350nm就够用了，而且这部分低制程工艺生产的产品，占市场的 60%以上！
俄罗斯在战争期间以倾国之力发展出来的三百五十纳米制程的光刻机，其实就是属于第二代的技术水平……而这已经足以维持其战争，基本社会工业运转的需求。
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当然，对于绝大部分行业而言，芯片工艺肯定越高越好，两三百纳米是勉强够用，但是六十五纳米更好用不是。
甚至二十八纳米，十四纳米的芯片用在普通家电上也更好啊，普通电视摇身一变就是智能电视了，嘎韭菜好用的很。
在当下的10年光刻机市场里，可不仅仅只有最顶级的euv光刻机，其实占据出货主流的还是duv光刻机，甚至duv浸润式光刻机都还算是顶级光刻机，价格昂贵，出货量并不算太大。
而duv干式光刻机，以后世眼光去看似乎落后了，但是在当下依旧是主流光刻机。
智云微电子的新工厂里，都还采购了大量的国外进口duv干式光刻机呢。
甚至连krf光刻机和i-line光刻机都在采购……
值得庆幸的是，目前国内的krf以及i-line光刻机所需要的一些核心技术都已经被陆续解决。
一些核心技术虽然对比国外的先进产品还有差距，但是也能用。
只是产业利用上不咋地，做出来的前道光刻机对比国外同类产品生产效率差，市场竞争力太差了。
所以国内利用这两种技术，主要是用来做后道光刻机的。
很多时候，就算是有这技术，不代表就能够用于商业上……
尤其是这两玩意国外也不封锁，你要多少就卖你多少，在进口产品的冲击下，这两种低制程的国产前道光刻机基本没啥市场可言。
国内的前道光刻机领域，
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