这个套刻精度逐步提升起来！”
徐申学道：“如此看来，我们的duv浸润式光刻机应该是稳了，未来七纳米工艺也问题不大了。”
“那么七纳米工艺以下呢？我们正在搞的600型光刻机能否进一步突破极限，做到等效五纳米的芯片？”
王道林此时道：“七纳米工艺问题不大，而五纳米工艺的话虽然理论上可以通过多重曝光，比如八重曝光，使用现有duv浸润式光刻机的134纳米波长的光源，也能用来制造等效5纳米工艺的芯片。”
“但是这需要光刻机提供更高的套刻精度，这样才能够在多重曝光的时候，每一次都对准芯片进行曝光。”
“如果套刻精度不够，那么在进行多重曝光的时候就无法对准，芯片良率就会低到一个非常夸张的程度。”
“按照我们的计算，600型光刻机的二点五纳米的套刻精度用来维持七纳米工艺量产是已经算是比较极限的了，到时候哪怕其他各方面的条件都比较理想，估计也就只能做到百分之八十左右的良率，而这还是理论数据，如果受到其他各方面的影响，实际生产的时候可能还达不到这个良率。”
“如果要使用600型光刻机，强行生产等效五纳米工艺的芯片，也不是不可以，在理论上是存在这种可能性的，但是我们的这款600型光刻机在套刻精度上还不够，强行生产的话，那么良率将会非常低，完全不具备商业价值！”
徐申学听罢后，却是没有露出什么沮丧之类的表情，而是继续翻看着技术，然后道：“七纳米工艺能够解决的话，就不错了。”
“至于五纳米工艺的话，良率低，商用价值低先不谈，关键的是要解决有无问题，我们必须确保哪怕没有euv光刻机，也要能够获得一定的五纳米工艺产能，哪怕它成本极其高昂！”
徐申学对这个等效五纳米工艺
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