因此智云微电子方面也在规划对现有的三座十八纳米工艺的晶圆厂进行技术升级，以支持十四纳米工艺的生产。
主要是因为现在智云微电子现有的三座十八纳米工艺上所使用的核心设备，如光刻机，蚀刻机等都是当下最顶级的设备，也是可以满足十四纳米工艺的生产需求的。
因此这三座工厂只需要对部分辅助设备进行升级，对工艺进行改进那么就可以无缝转产十四纳米工艺的芯片。
甚至，这三座工厂未来，其实都还能进一步升级到等效十二纳米、等效十纳米工艺……反正都是双重曝光，对核心设备的要求差别不会很大，只需要对部分非关键设备，工艺进行改进就行了。
今年下半年陆续出货的海湾科技hduv-500光刻机，该光刻机的套刻精度三点五纳米，支持高精度双重曝光，这款光刻机是能满足10-22纳米工艺的。
真正难搞的是需要四重曝光的等效七纳米工艺……这个级别的工艺还需要更先进，套刻精度更高的光刻机。
海湾科技那边暂时还没有满足该精度的光刻机，预计中的hduv-600，也就是套刻精度二点五纳米的光刻机要到明年下半年才能推出。
asml那边的这种级别的光刻机，预计也是明年左右出货。
某种程度上来说，其实海湾科技已经追上了asml的步伐。
至少在工艺精度上追上了。
就是产能，良率这些数据上还有所不如……但是海湾科技的光刻机卖的便宜，维护费用也便宜啊，最后算下来的芯片成本其实都差不多。
这也是为什么美财团那边，现在懒都得对徐申学，卡duv浸润式光刻机的根本原因……人家徐申学都把东西给弄出来了，你还卡个毛线，卡个一年半载的也没啥卵用。
你不能指望智云这边的芯片工艺落后一年半载的
本网站为网友提供小说上传储存空间平台，为网友提供在线阅读交流、txt下载，平台上的所有文学作品均来源于网友的上传
用户上传的文学作品均由网站程序自动分割展现，无人工干预，本站自身不编辑或修改网友上传的内容（请上传有合法版权的作品）
如发现本站有侵犯权利人版权内容的，请向本站投诉，一经核实，本站将立即删除相关作品并对上传人ID账号作封号处理