低！
就这么点产量，它就便宜不到哪里去。
其他的核心设备也大多存在类似的情况，产量低，成本无法摊薄，售价极其昂贵。
沪城基地第二十六号厂里，预计采用的上千万美元的设备除了光刻机，还有一大堆呢。
光刻机成本也只占据了晶圆厂成本的百分之二十五左右，还有百分之五十成本是其他设备构成的。
至于非设备成本，也就是厂房以及其他乱七八糟的成本全部加起来，只有百分之二十五……这个百分之二十五的比例是比较低的，台积电搞一家同级别的晶圆厂，非设备成本这些得占据百分之三十左右。
当然，一家晶圆厂里，成本最贵的还是光刻机，光这一种设备就占据百分之二十五的建厂成本。
王道林对自家的duv浸润式光刻机也是相当自豪的：“我们的duv浸润式光刻机，目前已经为国内六家客户供货，智云微电子已经接收了三十台这种光刻机，并成功应用于产线上。”
“我们的hduv-500型光刻机，在套刻精度上，三点五纳米已经满足10-22纳米节点的双重曝光工艺需求，同时我们的双工台技术也有比较大的进步，进一步推高了生产效率！”
“而我们的hduv-600型号光刻机，目前也已经完成了样机制造，我们正在进行后期的各种测试环节，量产型号有望在明年第四季度出货，以供应智云微电子使用。”
“这款hduv-600型光刻机，套刻精度达到两点五纳米，完全可以用来进行四重曝光，满足智云微电子提出的等效七纳米工艺的生产需求！”
“目前我们在duv光刻机领域的技术研发，主要也是集中在这款光刻机上！”
“除了眼前这些光刻机外，旁边的是我们的蚀刻机，离子注入机等核心设备，也都是我们研发人员联合国
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