第三百四十五章 有良心，但不多（7 / 12）

较长的时间来进行逐步的改进。

智云微电子，实际上在今年第一季度就已经完成了十纳米工艺的技术验证，但是到目前为止依旧不具备量产的能力……良率太低，成本太高，不具备量产的条件。

工艺节点的推进是非常复杂的，除了硬件设施，也就是光刻机以及其他各类核心设备的参数要达标外，还需要各类耗材的技术参数也代表，比如光刻胶，特殊气体等等。

然后各类工序也需要设计，达到最理想的情况，提升产能，提升良率。

而这些并不是说有了光刻机就能搞的，还得需要大量的技术工作。

尤其是等效七纳米工艺这种，直接奔着现有光刻机的极限能力去的工艺，搞起来难度非常大的。

毕竟hduv-600光刻机或者是asml的nxt1980光刻机，它们只是理论上具备通过四重曝光的方式，来达到等效七纳米工艺的水准。

但是如何达到这个理论设计的极限，还需要晶圆厂付出巨大的努力。

搞工艺，也不是那么简单的事。

要不然的话，asml的光刻机到处卖，也不会只有台积电和智云微电子直接上马等效七纳米工艺了……技术难度太大，制造出来的芯片成本也非常高，有种得不偿失的感觉。

四星和英特尔这两家，也在搞等效七纳米工艺，但是进度非常缓慢，大概率是要落后智云微电子以及台积电一段时间了。

看过通城基地后，徐申学随后返回了深城，也顺道看了看深城基地里的十纳米工艺的产线。

十纳米工艺产线，其实也是一个过渡工艺节点，目前智云集团里的诸多芯片设计里，只有手机芯片以及ai芯片，包括车规级算力芯片，电脑上的pc芯片才准备采用这个十纳米工艺节点。

其他芯片类型的话，暂时暂时没有这个规划。