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第四百一十二章 颠覆传统的S17 MAX(3 / 17)

年推出的14++工艺里,其晶体管密度才三千七百万个每平方毫米,晶体管密度甚至还不如之前的十四纳米工艺……当然,他们走的是取巧的路子,通过降低晶体管密度,来控制功耗,同时放大芯片面积,进而塞进去更多的晶体管数量。

这样做出来的芯片,就是属于面积比较大,整体性能有所提升,只是成本也相对高一些。

不过说是成本高,但是也绝对没有台积电和智云微电子的十纳米工艺成本高……毕竟十四纳米工艺都是属于非常成熟的工艺了,而且还是降低晶体管密度的版本,硅晶圆的成本就更低了。

从商业角度来看,这是一个非常不错的路子。

但是也只有电脑cpu这种不太讲究芯片面积,对功耗、成本不算太敏感的领域才能使用……如果放在对芯片面积要求非常高、功耗要求也非常高的手机soc领域里,那就没办法做了。

除了英特尔外,还有一家逻辑芯片领域里的大厂商,那就是四星……他们的十纳米工艺也暂时还不行,今年才完成技术验证,要量产的话,估计都要明年去了,据传高通、amd等厂商已经和四星方面商谈,想要获得四星的十纳米工艺的产能了。

目前全球范围里,逻辑芯片制造厂商也就是智云微电子、台积电、英特尔、四星这四家企业之间的竞争,至于其他的都已经落伍了,连十四纳米工艺度还没玩利索呢。

而上述四家里,英特尔已经显得力不从心,他们在duv浸润式光刻机领域里的技术推进非常缓慢,别说什么七纳米工艺了,就连十纳米工艺都够呛……他们已经指望着采用euv光刻机来解决问题了。

duv浸润式光刻机领域里的工艺不行,那就直接上euv光刻机,来一个力大飞转。

但是……euv光刻机天知道什么时候才能正式商用。

徐申学那王八蛋

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