刻机的秘密资料，也尝试进行了理论上的工艺开发准备工作，但是依旧很不完善！”
“当然，单纯光刻机测试工作我们有信心在一年内完成，euv光刻机的七纳米工艺有望在两年左右搞定！”
徐申学心中盘算了一番，这意味着明年冬天左右euv光刻机的量产型号，就能批量生产交付给智云微电子，等到后年下半年话应该就能完成euv光刻机等效七纳米工艺的技术认证，大后年初开始大规模投产。
进而取代现在死贵又不好用的duv浸润式光刻机的等效七纳米工艺。
这个时间表还可以接受。
至少比竞争对手asml加台积电要快……
为什么？
因为按照徐申学手底下情报部门的打听，asml那边的euv光刻机项目一直都谈不上多顺利……也不是说技术不行，他们的技术来源全球各地，能获得很不错的各种子系统。
主要是今天这里出问题，明天那里出问题，拖时间……搞起来各种破事太多！
嗯，基本都是银河安保的功劳！
asml今年年初才推出了第四代的实验机型，听情报部门反馈，他们的第四代实验机型的分辨率做到了十六纳米，但是套刻精度依旧只有两点五纳米，属于典型的实验机型，用来进行商业生产就不太划算了。
这种第四代实验机型夏天的时候，刚交付给了台积电进行各种测试……银河安保尝试过进行阻挠，不过水果和高通、amd等一大票美国芯片厂商，现在都指望着台积电的技术能紧跟智云微电子，甚至超越智云微电子呢。
因为现在美国自己已经没有先进的专业芯片代工厂了……amd的芯片工厂早就出售，现在也没落了，使用的还是四星的落后十四纳米工艺技术，英特尔现在也困在十四纳米工艺，而且英特尔也不对外代工。
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