因为他们迄今为止都没能解决用duv浸润式光刻机生产他们的十纳米工艺。
主要是英特尔的十纳米工艺，其实和智云微电子以及台积电的七纳米工艺也差不多，都是晶体管密度达到每平方毫米一亿个左右的水准。
现在英特尔都已经放弃使用duv浸润式光刻机来搞了，而是准备一步到位用euv光刻机生产了……所以他们的十纳米工艺芯片只是计划，至于什么时候量产，大概要等到秋天甚至更晚时间去了。
因为asml的第四代，也就是第一代商业量产型的euv虽然也开始逐步供货了，但是产能不大，并且还有台积电，四星和英特尔抢产能，所以麻烦还是比较大。
不像是智云微电子这边，可以独享海湾科技的euv光刻机的产能。
但是不管怎么说，进入19年的一月份后，各大芯片厂商在智云集团推动的新一轮芯片竞争力，都不敢松懈，一个个都是紧追不舍。
芯片领域的竞争很残酷的，一旦落后，那么市场份额就会大量损失，所以没人愿意轻易放弃的。
当然了，有时候想要跟也不是那么容易的！
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现在的半导体领域里，最顶级的工艺就是等效七纳米工艺，或者说英特尔口中的十纳米工艺……
两者其实都是一个东西，都是属于晶体管密度在每平方毫米一亿个左右的逻辑芯片工艺。
采用duv浸润式光刻机四重曝光技术，或者采用分辨率达到13纳米的euv光刻机一次曝光技术。
而直到目前，依旧只有智云微电子和台积电解决了七纳米工艺的技术问题并进行大规模量产，四星以及英特尔都做不到，至于其他半导体制造厂商就更不用说了，他们连十纳米工艺都做不到，十四纳米工艺技术都还很勉强呢。
也就是说，当代的
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