第31章 学霸和学霸亦有差距（6 / 6）

【方案名称：双光束激光干涉无掩模光刻】

这个方案的核心原理，主要是基于波的干涉原理，它没有是用传统的透镜成像，而是利用两束光在晶圆的表面发生干涉，形成条纹。

确定了核心，李东很快就将推导写了出来。

设两束波长为λ的相干光，以入射角θ对称照射晶圆。

根据干涉极值条件，光程差Δx = kλ时为亮纹。

在空间几何关系中，干涉条纹的周期（间距）d满足：

d =λ/(2sinθ)

故，最小线宽（半周期）为：

δ_min = d/2 =λ/(4sinθ)

【突破性验证：】

当θ趋近 90°时，sinθ趋近 1。

此时理论极限可达λ/4。

对比传统瑞利极限 0.61λ/na（空气中na反射镜对准->干涉曝光。

【注：虽然该干涉方案主要适用于周期性图案的制备，但可作为先进制程中特定层的低成本替代方案，在生产约束内实现良率与成本的最优解。】

李东放下笔，看了一眼时间。

还剩十五分钟……