尽快用攻关浸润式光刻技术，但是在新光源的研究上也要不断努力。
另外，前世所有用过的已经成功的路，当然是已经确定可行的路。
前世没有采用的道路，也未必是不可行的。
以现在大明的资源，对于后世出现过其他方案，也可以让工部有选择尝试。
说不定能够实现比原有道路更好的效果呢？
比如说“同步辐射光源”设施，本身作为一个其他方面的科研设施，其原理使得其能放出各种波长的光。
包括最为接近x光的“极紫外光”。
实际上，历史上早期的光刻机技术验证，也曾经用过同步辐射光源去做研究和验证。
但是同步辐射光源的性质注定了难以商业化。
大明这边也可以尝试，建设大规模的同步辐射光源，在它的基础和原理上讨论，各种光源和光刻的可行性。
同时它也可以继续作为科研设备持续运转。
还有其他的更加具体的细节，比如提升性能的铜导线工艺，提升效率的双件工作台设计等等。
朱靖垣把自己能想到的都依次列举出来，作为自己的不确定的设想。
让工部和半导体司安排人员去做攻关和验证。
在这样的基础上，朱靖垣对工部、半导体司、工匠们提出了更加具体的研发目标。
首先是最重要和最核心的工艺制程和中央处理器。
两年之内完成一微米工艺的普及和量产，同时完成下一代的通用微处理器的开发。
新处理的性能目标是每秒计算次数不低于一千万次。
最好是达到每秒五千万次，也就是接近于386甚至486，或者是第一代ps游戏机的水平。
同时要求，它必须是六十四位微处理器，开发代号也因此直接确定为六十四
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