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第七百八十五章 光刻机的技术之墙得用水泡!(3 / 8)

程中,我们遇到了技术瓶颈。”此时的徐教授,脸上带着尴尬。

当初,秦总慧眼识珠,投资徐教授的光刻机,之后,国产光刻机技术就开始爆发了,一直都领先整个世界。

但是现在……己方在这里举步不前,那国产芯片技术,就要被国外逐渐追赶上来,甚至还有被反超的可能。

这段时间,徐教授非常着急,头发都白了!

今天,秦总既然过来了,那就给他汇报一下吧,万一秦总有什么好主意呢?

“光源问题?”秦锋倒是想到了什么,开口问道。

“没错,就是光源问题!”徐教授兴奋地说道:“随着光刻机技术的进步,我们需要的激光光源,波长也会越来越小,现在,新一代激光光源,遭遇了很大问题。”

芯片制造中,最关键的就是光刻,这需要激光光源!

这些年来,激光光源在不断进步,从436纳米的 g-line,到365纳米的 i-line,再到248纳米 krf,目前使用的是193纳米的 arf光源,这条路一直走得很通畅,但是,到了193纳米之后,就开始遇到问题了!

“按照技术路线,接下来就轮到157纳米的f2光源了,但是这个光源的问题很大。”徐教授说道:“这种波长下,熔石英的吸收很大,没法用熔石英来做透射式系统,目前业界的期待是用caf2来做,但是,依旧会遇到双折射的问题……咱们卡在这里已经半年多了……”

己方原地踏步,国外在追赶,用不了多久,就会被国外追上了!徐教授很着急!

在后世,秦锋也并不知道这个157纳米的光源为啥不能用,但是他知道,尼康赌这个系统,然后失败了,而当时无数次濒临破产的asml,把制胜的法宝押在了林本坚的浸润式光刻机上,于是成功了。

所以……这还用

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