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第七百八十五章 光刻机的技术之墙得用水泡!(4 / 8)

说吗?

“既然这种光源有问题,那就不要用了。”

“那我们用什么?”徐教授的目光中带着焦虑。

“还用之前的193纳米。”

徐教授睁大了眼睛,不可思议地看向秦锋,秦总,这个光源不够用啊!

不过……秦总既然这么说了,肯定有他的道理,还是听一听他怎么说。

“将这个光源穿过去离子水,水的折射率是多少来着?这样一换算,应该能将波长降低到130纳米左右吧?”

徐教授深深地呼吸了一口气,一旁的倪老已经开口了:“换算过来,是133纳米,这样比157纳米的光源还要小,但是……”

徐教授的脸上带着苦笑:“秦总,咱们的光刻机里是有电路的,您要在光刻机里加水……”

这听上去,有些扯淡啊!

秦锋笑了笑,林本坚当年在硅谷介绍这种技术的时候,所有人都以为他是在扯淡,毕竟之前的光刻机都是干式的,要在里面加水?脑子进水了吧?

只有那个即将破产的asml,决定押这种技术,然后,asml就发展成为了世界第一光刻机大厂,苦心钻研157纳米光源的尼康,就彻底落后了!

“听我的,没有错,早期光刻机还是用液压驱动的,里面的液压油,不也是液体的吗?”

最开始的光刻机,还真是液压驱动,万一,万一中的万一,管道崩了,那液压油肯定会喷射的到处都是,正在生产中的所有芯片都会报废。所以后来,都改成了电机驱动。

不过,当时高压的液压油都敢用,现在用一些水,有何不可?

“既然秦总确定,那我们就用这种技术,不过……这也只能解决暂时的问题,继续提升工艺,还是会遇到拦路虎。”

193纳米经过折射变成了133纳米,也就意味着,

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