0.13微米的工艺能解决了，之后进入纳米时代呢？还是会遇到光刻机的光源问题的！
“接下来，一步到位，开发euv光刻机，光源使用13.5纳米的极紫外波长。”
徐教授一阵惊讶：“这也太快了吧？”
“一步步来，还会不断地遇到技术难题，还不如加大攻关难度，将这个捣鼓出来，以后十年二十年，都不用担心光源问题了。”
秦锋不懂具体的技术细节，但是他懂技术的发展路线，仅仅是这个，就会让己方的技术遥遥领先对手了。
在光刻机的技术探索上，有很多失败的例子，尼康的157纳米是个坑，同时，还有光刻机生产厂研究过126纳米光源，但是，这个波长更奇葩，不仅仅是熔石英会吸收，任何材料的吸收都很厉害，透镜不能用，只能用全反射的方式，结构跨度太大，分辨率也没提升多少。
所以，后世的光刻机厂商各种研究，最终认为，干脆一步到位，上13.5纳米的光源。
这个光源的研究，也是经过了长时间的尝试的，甚至最初还是13.4纳米，各种研究之后，才锁定13.5纳米。
“这个光源……”徐教授仔细地思考了一番：“得在真空中，还得是反射结构。”
反正继续向下选，各种光源都是需要真空环境加反射镜的，和之前的结构完全不同，所以，一步到位！
寻找反射的条件也不容易，最终工程师们找到了反射率最高的mo-si布拉格反射器，一层mo薄膜加上一层si薄膜，它的最高反射率在13.5纳米波长的位置，于是，这种光源就被确定了下来。
其他的技术路线，x光之类的，都被超越了。
不过，最初的时候，精度并不是特别高，只是比193浸润式光刻机提升了三倍而已，就算是这样，过渡到纳米时代也没问题了，之
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