投影到硅片表面的光刻胶上。
被光线照射区域的光刻胶发生化学反应。
整个曝光过程只有几秒钟，但紫光透过观察窗映在众人脸上，气氛庄严而神圣。
曹文三和曲嵩等人在一旁，下意识地咽了口口水。
“步进！”
第一个区域曝光完成，工作台在精密导轨带动下，精确移动一个芯片的距离，将下一个未曝光的区域移动到镜头下。
对准系统再次快速进行局部微调，然后再次曝光。
如此反复，直到整片硅片的所有芯片区域都完成这一层图形的曝光。
张伟森紧盯着控制屏上的进度条，顾江河则紧张地记录着步骤。
12英寸的晶圆，光是一片步进曝光最终都耗时近一个半小时。
三片晶圆全都完成后，时间早已到了下午一点多。
曝光完成的硅片被吴培书迅速转移至专用的热板上进行短暂加热，以稳定曝光图形。
之后则被其放入显影槽进行显影工作。
一步步的流程之后，最终才进入蚀刻阶段。
一直到晚上六点多，三片晶圆的流片工作才结束。
众人无论是有操作工作的，还是车间内等待的同志，都已经空了一整天肚子。
但这会儿众人非但不累，反而愈发激动与紧张！
随着吴培书将蚀刻后剩余的光刻胶彻底除去，清洗干净后的硅片被送到进口的高倍率显微镜下。
沈永健此刻已等在此处，调整着显微镜的焦距，进行最后的测试工作。
镜头在硅片表面缓慢移动，车间里鸦雀无声，只能听到自己的心跳和呼吸声。
每个人都死死盯着沈永健的背影和他放在目镜上的手。
卓邵文，顾江海与吴培书等人也已退出操作区，等在边上同样
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